3分鐘了解高功率半導(dǎo)體激光器的關(guān)鍵技術(shù)
東芝正在打造高層閃存和ReRAM芯片,預(yù)計原型樣本將于明年推出
高層或3D芯片的想法是:我們可以回避閃存或內(nèi)存芯片存儲密度增加的局限性,將它們向上堆疊,從而增加存儲密度,就像高層住宅能夠居住更多人一樣。
從Nikkei Electronics得知,東芝正在使用一種NAND、其p-BiCS技術(shù)以及ReRAM(阻性RAM)來構(gòu)建3D堆疊,ReRAM是NAND潛在的替代技術(shù),它結(jié)合了RAM和NAND的屬性來提供字節(jié)尋址能力、DRAM級速度和NAND非易失性。
正如下圖所示,3D閃存包含NAND堆疊層,它們通過通信孔(TSV或者Through Silicon Via)的來鏈接到堆棧基的堆?刂破鳌_@并不是將NAND芯片堆疊在另一個芯片之上,而是在單個芯片中堆疊NAND層。
東芝p-BiCS技術(shù)
東芝的p-BiCS NAND有一個50納米大小的洞和16層,東芝的首席工程師Masaki Momodomi表示,當使用超過15層時,假設(shè)是類似的容量水平的話,p-BiCS要比普通的NAND更便宜。該公司計劃在明年提供128Gbit和256Gbit原型樣本,在2014年提供工程樣本,在2015年進行量產(chǎn),我們還需要等待兩年才能在市面上看到這個產(chǎn)品。
ReRAM技術(shù)也是類似的時間表。它比NAND有更快的寫入時間,東芝認為ReRAM能夠發(fā)揮與p-BiCS不同的作用,它將用于比p-BiCS更接近CPU的未知,STT-RAM用于SSD中的高速緩存。Objective Analysis的Jim Handy表示:“ReRAM將被用于高性能應(yīng)用程序,它們的寫入速度快于NAND,它們是隨機訪問設(shè)備,而NAND不是,它們不需要ECC,這些都能夠帶來更快性能。”
東芝的ReRAM技術(shù)的原型樣本、工程樣本和量產(chǎn)時間將于p-BiCS基本一致。東芝展示了64Gbit ReRAM設(shè)備的圖片,但東芝計劃提供相當容量的p-BiCS和ReRAM。
東芝計劃減小現(xiàn)有1Xnm(19納米)NAND單元的大小,將于今年推出1Ynm(據(jù)我們了解18-14納米),明年推出1Znm(10-13納米)產(chǎn)品。
Handy表示:“所有這些新技術(shù)(MRAM、ReRAM、FRAM等)都比NAND有更好的表現(xiàn)(BiCS是NAND的一種),但更加昂貴。對于內(nèi)存而言,成本就是一切,這些替代品在這方面并沒有做好。這些技術(shù)的承諾是它們能夠跨越過去NAND的擴展限制,如果真的是這樣的話,它們最終將比NAND更便宜。”
“東芝談到1y和1z,19納米后的工藝。我懷疑NAND大約會在10納米停止擴展,但BiCS將導(dǎo)致NAND價格繼續(xù)下降。”
我們會繼續(xù)看到NAND尺寸下降嗎?還是通過3D從NAND的堆疊中獲得更多容量?Handy表示:“最新的ITRS(國際半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展路線圖)為NAND指出了兩個不同的方向,垂直(BiCS)和傳統(tǒng)。行業(yè)真的不知道未來將如何發(fā)展,但讓我們拭目以待。”
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